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http://cio.repositorioinstitucional.mx/jspui/handle/1002/203| ESPECTROSCOPÍA DE SEGUNDO ARMÓNICO POR REFLEXIÓN EN SILICIO ESTRESADO | |
| Oscar Rodolfo Muñiz Sánchez | |
| RAMON CARRILES JAIMES | |
| Acceso Abierto | |
| Atribución-NoComercial-SinDerivadas | |
| Generación de segundo armónico Películas delgadas Superficies | |
| "En esta tesis se presenta el diseño y elaboración de un sistema óptico típico capaz de realizar espectroscopia de la generación de segundo armónico por reflexión considerando su anisotropía rotacional, en un amplio rango de longitudes de onda. Por medio de dicho sistema se obtuvo la respuesta de una muestra de Silicio estresado con orientación cristalina (001) y ángulo ’miscut’ de 5 grados hacia (110) con longitudes de onda en el rango de 700-790 nm, en la combinación de polarización Sin Pout a un ángulo de incidencia de 45 grados, se observó una resonancia típica del Silicio que confirma la funcionalidad del sistema óptico y la sugerencia de una dependencia por parte del estrés en las mediciones." | |
| 2017-04 | |
| Tesis de maestría | |
| Español | |
| León, Guanajuato | |
| Público en general | |
| Muñlz Sánchez, (2017). "Espectroscopía de segundo armónico por reflexión en Silicio estresado". Tesis de Maestría en Ciencias (Óptica). Centro de Investigaciones en Óptica, A.C. León, Guanajuato. 55 pp. | |
| OPTICA NO LINEAL | |
| Aparece en las colecciones: | MAESTRIA EN CIENCIAS (ÓPTICA) |
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